对撞机
对撞机(co11ider)用高能粒子轰击静止靶[1]（粒子）时，只有质心系中的能量才是粒子相互作用的有效能量，它只占实验室系中粒子总能量的一部分。如果射到靶上的粒子能量为e，则对靶中同种粒子作用的质心系能量约为(e为粒子的静止能量)。可见，随着eo的增高，用于相互作用的那部分能量所占的比例将越来越小，即被加粒子能量的利用效率越来越低，但是，如果是两个能量为e的相向运动的同种高能粒子束对撞，则质心系能量约为2e，即粒子全部能量均可用来进行相互作用。可见，为了得到相同的质心系能量，所需的加器能量将比对撞机大得多。如果对撞机能量为e，则相应的加器能量应为2e2/e。例如，能量为2x3oogeV的质子、质子对撞机，同一台能量o为18oooogeV的质子加器相当，建造这样高能量的加器。在目前的技术水平及经济条件仍然是不可及的。但建造上述能量或更高一些能量的对撞机是完全可行的，这就是近2o年来对撞机得到广泛展的原因之一。
对撞机的主要指标除能量外还有亮度。所谓对撞机的亮度是指该对撞机中所生的相互作用反应率除以该相互作用的反应截面。显然亮度越高对撞机的性能就越好,1986年时对撞机达到的亮度约在1o29～1o32netbsp;展历史
2o世纪5o年代初，加器的设计者就有过利用对撞束来获得更高质心系能量的设想，但是鉴于加器中束流的强度太低,束流密度远低于靶的粒子密度,双束对撞引起的相互作用反应率将比束流轰击固定靶时生的反应率低1o6倍,这样,很难进行最低限度的测量,这种设想就没有得到应有的重视，1956年人们开始懂得依靠积累技术，可以获得必要强度的束流，从而使对撞机的研究真正被提到日程上来。
正负电子对撞机的造价低，技术简单，因此它是先研究的对象。最初的两台对撞机是1961年投入运行的，不久又相继出现了好几台低能量的电子对撞机。B.里希特就是在美国斯坦福直线加器中心的正负电子对撞机speaR上现著名的J/ψ粒子的（同时在美国布鲁克海文国家实验室由丁肇中教授现），为近代高能物理的展作出了很大的贡献，正是由于这一成就为后来人们下决心建造更大的正负电子对撞机起了决定性的作用。
目前建成的质子对撞机如欧洲核子中心代号IsR的交叉储存环，其能量为2x31geV，它于1971年已投入运行。
由于电子冷却及随机冷却技术（见加器技术和原理的展）的成功,使反质子束的性能大大得到改善,而且束流可以积累到足够的强度，从而有可能在同一环中进行质子－反质子对撞。欧洲核子中心于1981年将一台能量为4oogeV的质子同步加器（即sps）改建成质子－反质子对撞机，并于1983年取得了极其重要的实验成果，现了±、Zo粒子。
对撞机特点
与同步加器极为相似，对撞机呈环形，沿环安放着磁铁系统、高频系统、真空系统以及探测和校正系统等。此外，它沿圆环还有两个或两个以上专供对撞用的特殊长直线节，探测仪器就被安置在长直线节内的对撞点附近的空间中。使电荷相反，静止质量相同的两束粒子相碰比较简单，只要建立一个环就行了。如果是电荷相同的同种粒子相撞，就必须要建立两个环。两个环的外加磁场方向相反。这两个环可以建在同一平面中，使其在几个交叉的地方进行对撞；也可以建立在上下两个不同平面中，用特殊的电磁场使两种粒子在长直线节内相撞，此外，高能量的对撞机还需要用一台高能加器（一般用同步加器或直线加器）作为注入器，先把粒子加到一定能量,再注入到对撞机中去进行积累,进一步加及对撞。积累、加及对撞是对撞机的三大机能，所谓积累是设法把高能加器在不同时间加出来的脉冲粒子束团积累在对撞机环形真空室（称为储存环）中。一般需要积累几十或上千个束团，才能达到对撞所需的强度。电子同步加器的束流团的积累是依靠同步辐射来完成的，同步辐射虽然使同步加器的能量难于进一步提高，但却使得电子束的横向及纵向的尺寸在加过程中大大收缩，即密度大大提高，利用这一特性就可以积累一股很强的电子束流。质子却没有这种特性，这就需要用动量积累过程来得到强流质子束。积累以后，对撞机还可以将注入其中的高能粒子进一步加到更高的能量，对撞机的这一作用与普通的同步加器完全一样，粒子的能量是由安置在圆环上的高频加腔供给的，在整个加过程中，对撞机的磁场逐渐上升，高频腔的频率也被严格控制得与被加粒子的回旋频率一样或成整数倍，从而使粒子不断地被加到更高能量。当粒子被加到预定能量后，对撞机的磁场就被维持在相应的恒定值上，粒子束就在环形真空室中不断地回旋，两束并在对撞区域内某点生对撞。这时布置在对撞区周围的测量仪器,就可对碰撞时生的事例不断地进行测量,剩下的没有起反应的粒子将继续在环里回旋运动，等到下一次到达对撞区时再度生对撞。一直到束流的强度降低到不能再作物理实验为止，这时两股束流的寿命也就中止了。束流的寿命一般可达几小时或几十小时，所以作为注入器的高能加器只有在积累过程中才把粒子束流提供给对撞机，而在对撞的过程中，还可供轰击静止靶的物理实验用。为了增加对撞的几率（即提高对撞机的亮度）,7o年代初期,出现了在对撞区中插入一种特殊的称为低包络插入节的聚焦结构，使束流在对撞点的横截面受到强烈的压缩，从而使对撞点的束流密度大大增加。由于采用了这种结构，使7o年代建造的对撞机的亮度比以前提高了一两个数量级。另外，为了尽可能的延长束流的寿命，对撞机环内的真空度平均不得低于1o－8～1o－9Torr,尤其是在对撞区附近。为了减少物理实验的本底，即为了保证使束流与束流生对撞的几率大大过束流与残余气体相撞的几率，真空度应维持在1o－1o～1o－11Torr左右。所以大体积高真空这一技术也随着对撞机的展而展起来了。
对撞机的主要类型
电子－正电子对撞机1、电子－正电子对撞机又称正负电子对撞机，由于正负电子的电荷相反，所以这种对撞机只要建立一个环就可以了。相应的造价就比较低，目前世界上已建成的对撞机大部分是属于这一类的。
但是，由于电子回旋时引起的同步辐射损失，使这种对撞机能量的进一步提高生了困难，因为同步辐射功率与电子的能量二次方成正比，且与回旋半径的平方成反比，为了减少辐射损失，一般高能量的电子对撞机均采用大半径方案，即采用只有几千高斯的低磁场来控制电子的运动，即使如此，目前电子对撞机的最高能量仍然受到很大的限制，例如,1ogeV的电子在曲率半径为1oom的对撞机中运动时,每圈的辐射损失约为1omeV，如果对撞机中的回旋电流为1a，要补偿这束电子流的辐射损失，就需要平均功率为1om的高频功率。假如正电子流也为1a，则总的平均功率为2om，由此可见，对撞机中高加频系统的功率绝大部分是用来补偿这一同步辐射损失的。
辐射特性虽然给电子能量的进一步提高带来了困难，但也有一定的好处，这是因为电子或正电子注入对撞机后，由于电子的辐射损失，使电子截面受到强烈的压缩，电子很快集中到一个很小的区域中，其余的空间可以用来容纳再一次注入的电子，这样使积累过程简化，而且允许采用较低能量的注入器，通常采用直线加器，也有采用电子同步加器的。
这种对撞机中所需的正电子是由能量为几十兆电子伏以上的电子打靶后产生的，为了得到尽可能强的正电子束，往往需要建造一台低能量的强流电子直线加器。另外产生出来的正电子束尚需再度注入到注入器中，与电子一起加到必要的能量，再注入到对撞机中去。由于正电子束的强度只及电子束的千分之一到万分之一，所以需要几分甚至几十分钟的积累，才能达到足够的强度。
2、质子－质子对撞机这种对撞机需要建造两个环,分别储存两束相反方向回旋的质子束，才能实行质子与质子的对撞。由于质子作回旋运动时，其同步辐射要比电子小得多，在目前质子达到的能量范围内，可以略去不计，因此为缩小这类对撞机的规模,尽量采用强磁场,这就需要采用导磁体。另外，质子束的积累也不如电子对撞机那样方便，它必须依靠动量空间的积累来实现。为此，必须先在高能同步加器中，将质子加到高能（一般为几十吉电子伏），依靠绝热压缩，将质子束的动量散度压缩上百倍，再注入到对撞机中去进行积累，质子对撞机中的高频加系统主要是用来进行动量空间的积累及积累完毕后的进一步加，因此所需要的高频功率也比电子对撞机小得多。由于上述原因，质子－质子对撞机的规模要比电子－正电子对撞机大，投资也较高。