“不要，我们听话的。”
小雪小声的请求，豆粒大的眼泪转啊转，桃花眼一眨就滴落下来。
小雨和小雪渐渐的融入了许道微的家庭，成为不可或缺的一份子，不然，保姆学不学习他们何必在意呢。
……
美国，纽约，
光刻机193纳米到157纳米光源波长研讨会，在几乎来自全世界芯片行业的关注之下，这场研讨会，终于拉开了帷幕……
研讨会的现场，人头攒动。就算是曼哈顿酒店最大的会议厅，将将容纳所有到场的与会者，以及那些不远万里赶到的产业界人士。
扛着摄像机的记者站在会场的最后排，只有两三架摄像头摆在那里。为了不干扰这场报告会的进行，研讨会组织委员会只给有限的媒体发放了入场资格。也正是因此，此刻站在这座报告厅里的也只有bbc、哥伦比亚电视台这些在全球范围内都具备一定影响力的媒体。
嘈杂的声音充斥着整个会场，几乎要将天花板掀翻。几乎所有人都在议论着即将进行的研讨会，倪光北院士也不例外，与相熟的专家议论了起来。
此时的光刻机以干式光刻技术为主，干式光刻是以空气作为镜头与晶圆间的介质，让光罩上的图形在晶圆上成像。
然而，从193纳米到157纳米，微缩比例不到20%，达不到摩尔定律的要求。业界虽然研发多年，却卡在镜片材料的制造周期上，始终无法达到所需的规格，光阻的透明度也很难提高。
由此造成157纳米工艺无法按著摩尔定律要求的期限内完成。依照目前的进度发展，全球芯片产业甚至摩尔定律都将陷入停滞状态。
专家们依次上台提出了自己的解决方案，倪院士认真的记录着，而就在这时，一个说话语调慢慢吞吞的声音传了过来。
“运用水作为193纳米浸润式的介质，可以超过干式的157纳米。”
“可以在原有193纳米干式光刻镜头上发展浸润式光刻，改用水代替空气作为介质，注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间，把进入光阻的光波长缩到134纳米。因而提高44%解析度的影像就可以转接到晶圆的光阻上，让刻出的电路更精细……”
倪院士惊讶的抬头注视着舞台上的华裔，短暂思考之后，认出了这个人，正是台积电的林本坚博士。
所有人如同被封上了嘴巴一样，整个会场霎时间安静了下来。就像被扔下了一颗炸弹，一双双炽热的目光不约而同地在那人身上聚焦。
等到林本坚博士说完后，大家直接抛弃157纳米议题开始讨论193纳米浸润式。
不过，台下的芯片从业者七嘴八舌的提出了自己的疑问：
“水会不会产生气泡？”
“水会不会污染设备？是不是要做防水？怎么做？”
“水遇热会膨胀，折射率会改变，怎么解决？”
倪院士一边记录，一边思考着林本坚博士的解决方案，越听他越觉得这是一个机会，一个弯道超车的机会。
解决了问题是不够的，最重要的是做量产机器的厂商愿意投入才行。配套的厂商总共在157纳米光刻机研发上投入了不下十亿美元，更有厂商建好了157纳米镜头材料的工厂。林本坚博士的理论若被采用，等于宣告其他人前功尽弃。
产品的量产很多时候并不完全取决于技术是否更先进，更在于资本的博弈，产业界绝对不可能采用林本坚博士的方案。
但是大秦科技不在乎，现在大秦科技连193nm的光刻机还没有呢。倪院士目光火热，下定决心，会议结束后就要找林本坚博士聊聊，务必把他带回大秦科技。
此时下定决心的倪院士并不知道，这不仅是一个弯道超车的机会，甚至可能是领跑世界的机会。
大概从2006年开始至今，世界上所有的高端芯片，包括我们人手一部的手机里的核心芯片，人工智能芯片，5G芯片，比特币挖矿芯片，无一不是浸润式光刻科技制造的。说没有浸润式光刻科技就没有IT的今天，毫不夸张。
如果没有大秦科技，这次会议结束后的林本坚博士将跑遍美国、RB、荷兰与德国等地，一一拜会业界，劝说他们继续投入157纳米是浪费资金浪费时间，促使阿斯麦与尼康等国际大厂转向。某些国际大厂明确表示，他们绝不用这项科技。
最终林本坚在台积电高层的支持下，开始放手一博。带领团队从130纳米、做到90纳米、65纳米、40纳米、28纳米、20纳米、和16纳米，并开始研发10纳米、7纳米、和5纳米。他的创新和推动让全球芯片工艺得以往下推进了6、7代。
……