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第193章 分界岭(1 / 2)

 赵龙腾看着赵岂年,呵呵一笑,并未说什么,而是站了起来,给自己泡了壶大红袍!

这玩意,赵龙腾金贵的很,从来不舍的给赵岂年喝!

“你小子真是神了,居然能用计算法推算出用水可以推进光刻机的进步!”

“虽然有点差异,但是我们成功了!”

赵岂年早就想好了的说辞,这一次终于派上用场了!

“这可不是我计算的,是我花高薪聘请了国外的数学家帮我计算的!”

“油浸法在光刻机领域一直都有使用,我就想到了水是不是也可以,他们都可以折射光!”

“然后,我就请人以油浸法的模型推算了水的可行性!”

“我最多就是想到了,灵光一现吧…”

赵龙腾笑了笑,没有发表看法,这个说法他实际上是接受的,不然真的解释不了!

光刻机从出现开始,到现在,光源被卡在193nm无法进步长达20年。

这就是著名的ArF准分子激光,包括近视眼手术在内的多种应用都应用这种激光!

到现在,相关激光发生器和光学镜片等都比较成熟。

就是到后来,市面上用的所有手机电脑主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的。

光源卡住了,想让精度更高,只能从其他方面入手。

伴随着光源被卡主,光刻机的精度,其实也同样被卡住!

193纳米是一个分界岭!

全球高科技领域,甚至是米国政府,都插手这个事情,组成了联盟!

但是,尝试了很多方法,提出了很多解决方案,依旧没有成功!

最后,一切都败给了工程上最简单的解决办法,在晶圆光刻胶上方加1mm厚的水。

水可以把193纳米的光波长折射成134纳米!

浸入式光刻成功翻越了157纳米大关,直接做到半周期65纳米!

加上后来不断改进的高NA镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术,浸入式193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米!

而按照原来的历史,2002年浸入式193纳米的方案才会被提出,随后ASML在一年之后才开发出样机!

而现在,还没到2002年!!

光刻机跨越193纳米,是无数次尝试的结果!

赵岂年的存在,让这个方案提前了两年!

同时,在赵岂年大量资金的推动下,国内的研究和开发要提前两年!!

“赵叔,研究进展如何?”

赵龙腾哈哈一笑,心中的兴奋一下子被释放了出来!

“我们经过近一年的研究,成功产出了157纳米的光刻机!”

赵岂年哗一声站了起来,有点懵了!

“怎么……怎么这么快?”

赵龙腾:“哈哈……我们中国人在科研上,什么时候比外国人差?”

“我们不都追赶上来了?”

“况且,这一次,在光刻机上,我们处在同一个起跑线,最多比国外落后一点点!!”

“有了解决了方案,超过他们非常正常!!”

赵岂年也抑制不住自己内心的激动,这离他称霸光刻机领域又前进了大大的一步!

芯片产品需要至少1-3年时间,由前后道多家厂商通力磨合,才能产出优秀的芯片!

一旦提前,早量产,就比意味着多了更多时间去改善问题和提高良率。

因此,光刻机领域,是赢家通吃!

只要领先一步,就至少领先了三年!!

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